Industrial-scale sputter deposition of molybdenum oxide thin films: Microstructure evolution and properties

Pachlhofer, J., Martin-Luengo, A. T., Franz, R., Franzke, E., Köstenbauer, H., Winkler, J., Bonanni, A. & Mitterer, C., 4 Jan. 2017, in: Journal of vacuum science & technology / A (JVST). 35.2017, 2, 8 S., 021504.

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Beyond b-C3-N4-Fullerene-like carbon nitride: A promising coating material

Neidhardt, J. & Hultman, L., 2007, in: Journal of vacuum science & technology / A (JVST). A 25, S. 633-644

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Thermal stability of sputtered intermetallic Al-Au coatings

Moser, M., Mayrhofer, P. H., Rainforth, W. M. & Ross, I. M., 2007, in: Journal of vacuum science & technology / A (JVST). S. 1402-1406

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Micromechanical Properties of Micro- and Nanocrystalline CVD Diamond Thin Films with Gradient Microstructures and Stresses

Meindlhumer, M., Ziegelwanger, T., Grau, J., Sternschulte, H., Sztucki, M., Steinmüller-Nethl, D. & Keckes, J., 12 Jan. 2024, in: Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. 42.2024, 2, 12 S., 023401.

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Chemical composition and properties of MoAl thin films deposited by sputtering from MoAl compound targets

Lorenz, R., O'Sullivan, M., Sprenger, D., Lang, B. & Mitterer, C., 18 Mai 2017, in: Journal of vacuum science & technology / A (JVST). 35.2017, 6 S., 041504.

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Lead-free dielectric thin films: Synthesis of Ag(Nb1−xTax)O3 via reactive dc magnetron sputtering

Kölbl, L., Mehrabi, M., Griesser, T., Munnik, F. & Mitterer, C., 6 Dez. 2024, in: Journal of vacuum science & technology / A (JVST). 43.2024, 1, 11 S.

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In situ and ex situ quantification of nanoparticle fluxes in magnetron sputter inert gas condensation: A Cu nanoparticle case study

Knabl, F., Bandl, C., Griesser, T. & Mitterer, C., 17 Jan. 2024, in: Journal of vacuum science & technology / A (JVST). 42.2024, 2, 10 S., 023201.

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Oxidation behavior of a cathodic arc evaporated Cr0.69Ta0.20B0.11N coating

Kainz, C., Letofsky-Papst, I., Saringer, C., Krüger, H., Stark, A., Schell, N., Pohler, M. & Czettl, C., 1 Feb. 2023, (Elektronische Veröffentlichung vor Drucklegung.) in: Journal of vacuum science & technology / A (JVST). 41.2023, 2, 10 S., 023102.

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Oxidation and wet etching behavior of sputtered Mo-Ti-Al films

Jörg, T., Hofer-Roblyek, A. M., Köstenbauer, H., Winkler, J. & Mitterer, C., 2018, in: Journal of vacuum science & technology / A (JVST). 36, S. 021513-1-021513-5

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Tailoring age hardening of Ti_1-xAl_xN by Ta alloying

Großmann, B., Jamnig, A., Schalk, N., Czettl, C., Pohler, M. & Mitterer, C., 13 Sept. 2017, in: Journal of vacuum science & technology / A (JVST). 35.2017, 6, 6 S., 060604.

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