Nina Schalk
Publikationen
- Elektronische Veröffentlichung vor Drucklegung.
In-situ X-ray diffraction study of the oxidation behavior of arc-evaporated TiAlSiN coatings with low Al contents
Moritz, Y., Saringer, C., Tkadletz, M., Fian, A., Czettl, C., Pohler, M. & Schalk, N., 3 Nov. 2023, (Elektronische Veröffentlichung vor Drucklegung.) in: Surface & coatings technology. 475.2023, 25 December, 10 S., 130161.Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Diffusion studies in epitaxial TiN/Cu layers on MgO(001) by high resolution TEM and APT
Mühlbacher, M., Mendez Martin, F., Sartory, B., Schalk, N., Keckes, J., Lu, J., Hultman, L. & Mitterer, C., 2014.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Copper diffusion into single-crystalline TiN studied by transmission electron microscopy and atom probe tomography
Mühlbacher, M., Mendez Martin, F., Sartory, B., Schalk, N., Keckes, J., Lu, J., Hultman, L. & Mitterer, C., 2015, in: Thin solid films. 574, S. 103-109Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Cu diffusion into single-crystalline TiN studied by transmission electron microscopy and atom probe tomography
Mühlbacher, M., Mendez Martin, F., Sartory, B., Schalk, N., Keckes, J., Lu, J., Hultman, L. & Mitterer, C., 2014.Publikationen: Konferenzbeitrag › Vortrag › Forschung › (peer-reviewed)
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Influence of microstructure on diffusion barrier properties of TiN investigated by TEM and APT
Mühlbacher, M., Mendez Martin, F., Sartory, B., Lu, J., Schalk, N., Lars, H. & Mitterer, C., 2014.Publikationen: Konferenzbeitrag › Vortrag › Forschung › (peer-reviewed)
- Elektronische Veröffentlichung vor Drucklegung.
Cu diffusion in single-crystal and polycrystalline TiN barrier layers: A high-resolution experimental study supported by first-principles calculations
Mühlbacher, M., Bochkarev, A. S., Mendez Martin, F., Sartory, B., Chitu, L., Popov, M., Puschnig, P., Spitaler, J., Ding, H., Schalk, N., Lu, J., Hultman, L. & Mitterer, C., 26 Aug. 2015, (Elektronische Veröffentlichung vor Drucklegung.) in: Journal of applied physics. 118.2015, 8, 085307.Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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TiN diffusion barrier failure by the formation of Cu3Si investigated by electron microscopy and atom probe tomography
Mühlbacher, M., Greczynski, G., Sartory, B., Mendez Martin, F., Schalk, N., Lu, J., Hultman, L. & Mitterer, C., 19 Feb. 2016, in: Journal of Vacuum Science and Technology B, JVSTB. 34.2016, 2, S. 1-8 8 S., 022202.Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Evaluation of TiN diffusion barrier layers with different microstructures by transmission electron microscopy and atom probe tomography
Mühlbacher, M., Mendez Martin, F., Sartory, B., Chitu, L., Lu, J., Schalk, N., Keckes, J., Hultman, L. & Mitterer, C., 2015.Publikationen: Konferenzbeitrag › Vortrag › Forschung › (peer-reviewed)
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Diffusion in the Cu/TiN thin film system studied by atom probe tomography correlated with transmission electron microscopy and first-principles calculations
Mühlbacher, M., Mendez Martin, F., Lu, J., Schalk, N., Hultman, L. & Mitterer, C., 2015.Publikationen: Konferenzbeitrag › Vortrag › Forschung › (peer-reviewed)
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Diffusion Studies in the TiN/Cu Bilayer System and Beyond
Mühlbacher, M., Mendez Martin, F., Sartory, B., Greczynski, G., Lu, J., Schalk, N., Hultman, L. & Mitterer, C., 2016.Publikationen: Konferenzbeitrag › Vortrag › Forschung › (peer-reviewed)
