TiN diffusion barrier failure by the formation of Cu3Si investigated by electron microscopy and atom probe tomography

Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

Autoren

Externe Organisationseinheiten

  • Materials Center Leoben Forschungs GmbH
  • Linköping University

Details

OriginalspracheEnglisch
Aufsatznummer022202
Seiten (von - bis)1-8
Seitenumfang8
FachzeitschriftJournal of Vacuum Science and Technology B, JVSTB
Jahrgang34.2016
Ausgabenummer2
DOIs
StatusVeröffentlicht - 19 Feb. 2016