Christian Mitterer
Publikationen
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Origins of microstructure and stress gradients in nanocrystalline thin films: The role of growth parameters and self-organization
Daniel, R., Keckes, J., Matko, I., Burghammer, M. & Mitterer, C., 2013, in: Acta materialia. 61, S. 6255-6266Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Oxidation and diffusion processes during annealing of AlCrVN hard coatings
Franz, R., Neidhardt, J., Mitterer, C., Schaffer, B., Hutter, H., Kaindl, R., Sartory, B., Tessadri, R., Lechthaler, M. & Polcik, P., 2008, in: Journal of vacuum science & technology / A (JVST). A26, S. 302-308Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Oxidation and diffusion study on AlCrVN hard coatings using oxygen isotopes 16O and 18O
Franz, R., Schnöller, J., Hutter, H. & Mitterer, C., 2010.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Oxidation and diffusion study on AlCrVN hard coatings using oxygen isotopes 16O and 18O
Franz, R., Schnöller, J., Hutter, H. & Mitterer, C., 2011, in: Thin solid films. 519, S. 3974-3981Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Oxidation and wet-etching behavior of MoAlTi thin films deposited by sputtering from a rotatable MoAlTi compound target
Lorenz, R., O`Sullivan, M., Sprenger, D., Lang, B., Köstenbauer, H., Winkler, J. & Mitterer, C., 5 Feb. 2019, in: Journal of vacuum science & technology / B (JVST). 37.2019, 2, 021202.Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Oxidation and wet etching behavior of sputtered Mo-Ti-Al films
Jörg, T., Hofer-Roblyek, A. M., Köstenbauer, H., Winkler, J. & Mitterer, C., 2018, in: Journal of vacuum science & technology / A (JVST). 36, S. 021513-1-021513-5Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Oxidation and wet etching behavior of sputtered ternary molybdenum films
Jörg, T., Hofer-Roblyek, A. M., Winkler, J., Mitterer, C. & Köstenbauer, H., 2014.Publikationen: Konferenzbeitrag › Vortrag › Forschung
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Oxidation behavior of arc evaporated Al-Cr-Si-N thin films
Tritremmel, C., Daniel, R., Mitterer, C., Mayrhofer, P. H., Lechthaler, M. & Polcik, P., 2012, in: Journal of vacuum science & technology / A (JVST). 30, S. 061501-1-061501-6Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Oxidation behaviour and tribological properties of arc-evaporated ZrAlN hard coatings
Franz, R., Lechthaler, M., Polcik, P. & Mitterer, C., 2012, in: Surface & coatings technology. 206, S. 2337-2345Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
- Elektronische Veröffentlichung vor Drucklegung.
Oxidation mechanism of sputter deposited model SiNx/TiN/SiNx coatings
Moritz, Y., Kainz, C., Peritsch, P., Mitterer, C. & Schalk, N., 26 Juni 2023, (Elektronische Veröffentlichung vor Drucklegung.) in: Surface and Coatings Technology. 468.2023, 15 September, 7 S., 129753.Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
