Extracting high-temperature stress–strain curves from a 1.2 μm silicon film using spherical nanoindentation

Schaffar, G. J. K., Tscharnuter, D., Imrich, P. J. & Maier-Kiener, V., 27 Dez. 2024, in: Thin solid films. 809.2025, 1 January, 10 S., 140597.

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Thermal expansion of magnetron sputtered TiC_xN_1-x coatings studied by high-temperature X-ray diffraction

Saringer, C., Kickinger, C., Munnik, F., Mitterer, C., Schalk, N. & Tkadletz, M., 31 Okt. 2019, in: Thin solid films. 688.2019, 31 October, 8 S., 137307.

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Microstructure and stress gradients in TiW thin films characterized by 40 nm X-ray diffraction and transmission electron microscopy

Saghaeian, F., Keckes, J., Woehlert, S., Rosenthal, M., Reisinger, M. & Todt, J., 14 Okt. 2019, (Elektronische Veröffentlichung vor Drucklegung.) in: Thin solid films. 691.2019, 1 December, 7 S., 137576.

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Influence of oxygen impurities on growth morphology, structure and mechanical properties of Ti–Al–N thin films

Riedl, H., Munnik, F., Hutter, H., Mendez Martin, F., Kolozsvari, S., Bartosik, M., Mayrhofer, P. H., Koller, C. & Rachbauer, R., 2016, in: Thin solid films. 603, S. 39-49 10 S.

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Structure and Properties of Pulsed-Laser Deposited Carbon Nitride Thin Films

Riascos, H., Neidhardt, J., Radnoczi, G. Z., Emmerlich, J., Zambrano, G., Hultman, L. & Prieto, P., 2006, in: Thin solid films. 497, S. 1-6

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Nanoindentation of chemical-vapor deposited Al₂O₃ hard coatings at elevated temperatures

Rebelo De Figueiredo, M., Abad, M. D., Harris, A. J., Czettl, C., Mitterer, C. & Hosemann, P., 2015, in: Thin solid films. 578, S. 20-24

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Studies on the morphology of Al2O3 thin films grown by Atomic Layer Epitaxy

Prohaska, T., Ritala, M., Saloniemi, H., Leskelä, M. & FRIEDBACHER, G., 1996, in: Thin solid films. S. 54-58

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Development of crystallinity and morphology in hafnium dioxide thin films grown by Atomic Layer Epitaxy

Prohaska, T., Ritala, M., Leskelä, M., Niinistö, L., FRIEDBACHER, G. & GRASSERBAUER, M., 1994, in: Thin solid films. S. 72-80

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Surface roughness reduction in Atomic Layer Epitaxy growth of titanium dioxide thin films

Prohaska, T., Ritala, M., Leskelä, M., Niinistö, L., FRIEDBACHER, G. & GRASSERBAUER, M., 1994, in: Thin solid films. S. 155-162

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Seed layer stimulated growth of crystalline high Al containing (Al,Cr)2O3 coatings deposited by cathodic arc evaporation

Pohler, M., Franz, R., Ramm, J., Polcik, P. & Mitterer, C., 2014, in: Thin solid films. 550, S. 95-104

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