Juraj Todt
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Publikationen
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X-ray analysis of residual stress gradients in TiN coatings by a Laplace space approach and cross-sectional nanodiffraction: a critical comparison
Steffenelli, M., Todt, J., Riedl, A., Ecker, W., Müller, T., Daniel, R., Burghammer, M. & Keckes, J., 2013, in: Journal of applied crystallography. 46, S. 1-8Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
- Elektronische Veröffentlichung vor Drucklegung.
X-ray nanodiffraction analysis of residual stresses in polysilicon electrodes of vertical power transistors
Karner, S., Blank, O., Rösch, M., Burghammer, M., Zalesak, J., Keckes, J. & Todt, J., 20 Juni 2022, (Elektronische Veröffentlichung vor Drucklegung.) in: Materialia. 24.2022, August, 6 S., 101484.Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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X-ray nanodiffraction analysis of stress oscillations in a W thin film on through-silicon via
Todt, J., Hammer, H., Sartory, B., Burghammer, M., Kraft, J., Daniel, R., Keckes, J. & Defregger, S., 2016, in: Journal of applied crystallography. 49, S. 182-187 6 S.Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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X-ray nanodiffraction reveals stress distribution across an indented multilayered CrN-Cr thin film
Steffenelli, M., Daniel, R., Ecker, W., Kiener, D., Todt, J., Zeilinger, A., Mitterer, C., Burghammer, M. & Keckes, J., 2015, in: Acta materialia. 85, S. 24-31Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
