X-ray nanodiffraction analysis of stress oscillations in a W thin film on through-silicon via

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Autoren

Originalsprache	undefiniert/unbekannt
Seiten (von - bis)	182-187
Seitenumfang	6
Fachzeitschrift	Journal of applied crystallography
Jahrgang	49
DOIs	https://doi.org/10.1107/S1600576715023419
Status	Veröffentlicht - 2016