Friedemar Kuchar
Publikationen
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Damage of basalt induced by microwave irradiation
Hartlieb, P., Leindl, M., Kuchar, F., Antretter, T. & Moser, P., 2012, in: Minerals engineering. S. 82-89Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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The relation of temperature, microwave absorbing properties and thermo - dynamic behavior of selected hard rocks
Hartlieb, P., Toifl, M., Meisels, R., Antretter, T. & Kuchar, F., 11 Juni 2015, Physical Separation 15 - Proceedings.Publikationen: Beitrag in Buch/Bericht/Konferenzband › Beitrag in Konferenzband
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The relation of temperature, microwave absorbing properties and thermo-dynamic properties of selected hard rocks
Hartlieb, P., Toifl, M., Meisels, R., Antretter, T. & Kuchar, F., 11 Juni 2015.Publikationen: Konferenzbeitrag › Vortrag › Forschung
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Thermo-physical properties of selected hard rocks and their relation to microwave-assisted comminution
Hartlieb, P., Toifl, M., Kuchar, F., Meisels, R. & Antretter, T., 2016, in: Minerals engineering. 91.2016, S. 34 - 41 8 S.Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Reaction of different rock types to low-power (3.2 kW) microwave irradiation in a multimode cavity
Hartlieb, P., Kuchar, F., Moser, P., Kargl, H. & Restner, U., Jan. 2018, in: Minerals engineering. 118Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Dynamical scaling of the quantum Hall plateau transition
Hohls, F., Zeitler, U., Haug, R., Meisels, R., Dybko, K. & Kuchar, F., 2002, in: Physical review letters. 89, S. 2768011-2768014Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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A generalized treatment of the dynamical scaling of the quantum Hall effect plateau transition
Hohls, F., Zeitler, U., Haug, R., Meisels, R., Dybko, K. & Kuchar, F., 2003, in: Physica E: Low-dimensional systems & nanostructures. S. 10-16Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Hydrogen content in amorphous SiN
Jonak, I. & Kuchar, F., 2000, in: European semiconductor. 22, S. 49-52Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Characterization of silicon gate oxides by conducting atomic-force microscopy
Kremmer, S., Teichert, C., Pischler, E., Gold, H., Kuchar, F. & Schatzmayr, M., 2002, in: Surface and interface analysis. 33, S. 168-172Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Modification and characterization of thin silicon gate oxides using conducting atomic force microscopy
Kremmer, S., Peissl, S., Teichert, C., Kuchar, F. & Hofer, C., 2003, in: Materials science and engineering B (Solid-state materials for advanced technology). 102, S. 88-93Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
