Characterization of silicon gate oxides by conducting atomic-force microscopy

Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

Autoren

  • S Kremmer
  • E Pischler
  • H Gold
  • M Schatzmayr

Organisationseinheiten

Details

Titel in ÜbersetzungCharacterization of silicon gate oxides by conducting atomic-force microscopy
OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)168-172
FachzeitschriftSurface and interface analysis
Jahrgang33
DOIs
StatusVeröffentlicht - 2002