Archim Wolfberger

(Ehemalig)

Publikationen

  1. Veröffentlicht

    Influence of environmental factors like temperature and humidity on MEMS packaging materials.

    Yalagach, M., Fuchs, P. F., Mitev, I., Antretter, T., Feuchter, M., Wolfberger, A. & Qi, T., 26 Nov. 2018, 2018 7th Electronic System-Integration Technology Conference, ESTC 2018 - Proceedings. Institute of Electrical and Electronics Engineers, 8546484

    Publikationen: Beitrag in Buch/Bericht/KonferenzbandBeitrag in Konferenzband

  2. Veröffentlicht

    Numerical analysis of the influence of polymeric materials on a MEMS package performance under humidity and temperature loads

    Yalagach, M., Filipp Fuchs, P., Wolfberger, A., Gschwandl, M., Antretter, T., Feuchter, M., Tak, C. & Tao, Q., 1 Mai 2019, Proceedings - IEEE 69th Electronic Components and Technology Conference, ECTC 2019. Institute of Electrical and Electronics Engineers, S. 2029-2035 7 S. 8811123. (2019 IEEE 69TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC)).

    Publikationen: Beitrag in Buch/Bericht/KonferenzbandBeitrag in Konferenzband

  3. Veröffentlicht

    Photoregeneration of Trimethylsilyl Cellulose as a Tool for Microstructuring Ultrathin Cellulose Supports

    Wolfberger, A., Kargl, R., Grießer, T. & Spirk, S., Okt. 2014, in: Molecules. 19, 10, S. 16266-16273

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

  4. Veröffentlicht

    Photolithographic Patterning of Polynorbornenes: Towards Applications in Optics and Organic Electronics

    Wolfberger, A., Petritz, A., Fian, A., Stadlober, B., Schmidt, V., Teichert, C. & Grießer, T., 2013.

    Publikationen: KonferenzbeitragPosterForschung(peer-reviewed)

  5. Veröffentlicht

    Cross-linking and lithographic patterning of polynorbornenes via thiol-ene reaction

    Wolfberger, A., Grießer, T., Daschiel, U. & Kern, W., 2010.

    Publikationen: KonferenzbeitragPosterForschung(peer-reviewed)

  6. Veröffentlicht

    Photolithographic patterning of cellulose: a versatile dual-tone photoresist for advanced applications

    Wolfberger, A., Petritz, A., Fian, A., Herka, J., Schmidt, V., Stadlober, B., Kargl, R., Spirk, S. & Grießer, T., 16 Okt. 2014, in: Cellulose. Volume 22, Issue 1, S. 717-727 11 S.

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

  7. Veröffentlicht

    Ring Opening Methathesis Polymerisation Derived Polymers as Photoresists: Making Use of Thiol-ene Chemistry

    Wolfberger, A., Rupp, B., Kern, W., Grießer, T. & Slugovc, C., 2011, in: Macromolecular rapid communications. 32, S. 518-522

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

  8. Veröffentlicht
  9. Veröffentlicht

    Photoreactive Materials for Applications in Organic Electronics

    Wolfberger, A., 2014, 125 S.

    Publikationen: Thesis / Studienabschlussarbeiten und HabilitationsschriftenDissertation

  10. Veröffentlicht

    Photolithographische Strukturierung von Polynorbornenderivaten mittels Thiol-en Reaktion

    Wolfberger, A., 2011

    Publikationen: Thesis / Studienabschlussarbeiten und HabilitationsschriftenMasterarbeit

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