Photolithographic patterning of cellulose: a versatile dual-tone photoresist for advanced applications

Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

Autoren

  • Andreas Petritz
  • A. Fian
  • V. Schmidt
  • B. Stadlober
  • Rupert Kargl
  • Stefan Spirk

Details

Titel in ÜbersetzungPhotolithographic patterning of cellulose: a versatile dual-tone photoresist for advanced applications
OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)717-727
Seitenumfang11
FachzeitschriftCellulose
JahrgangVolume 22
AusgabenummerIssue 1
DOIs
StatusVeröffentlicht - 16 Okt. 2014