High-temperature residual stresses in thin films characterized by x-ray diffraction substrate curvature method

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Autoren

Titel in Übersetzung	High-temperature residual stresses in thin films characterized by x-ray diffraction substrate curvature method
Originalsprache	Englisch
Seiten (von - bis)	036103-01-036103-03
Fachzeitschrift	Review of scientific instruments
Jahrgang	78
DOIs	https://doi.org/10.1063/1.2535857
Status	Veröffentlicht - 2007