30 nm X-ray focusing correlates oscillatory stress, texture and structural defect gradients across multilayered Ti N-SiOx thin film

30 nm X-ray focusing correlates oscillatory stress, texture and structural defect gradients across multilayered Ti N-SiO_x thin film

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Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS
Fraunhofer IKTS
European Synchrotron Radiation Facility
AXO Dresden GmbH
Materials Center Leoben Forschungs GmbH
Erich-Schmid-Institut für Materialwissenschaft der Österreichischen Akademie der Wissenschaften

Originalsprache	Englisch
Seiten (von - bis)	862-873
Fachzeitschrift	Acta materialia
Jahrgang	144
DOIs	https://doi.org/10.1016/j.actamat.2017.11.049 https://doi.org/10.1016/j.actamat.2017.11.049
Status	Veröffentlicht - 2018