Department Werkstoffwissenschaft

Organisation: Departments and Institute

Publikationen

  1. Veröffentlicht

    Structure and thermal stability of arc evaporated (Ti0.33Al0.67)1-xSixN thin films

    Flink, A., Andersson, J. M., Alling, B., Daniel, R., Sjölen, J., Karlsson, L. & Hultmann, L., 2008, in: Thin solid films. 517, S. 714-721

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

  2. Elektronische Veröffentlichung vor Drucklegung.

    Structure and surface energy of Au55 nanoparticles: An ab initio study

    Holec, D., Fischer, F.-D. & Vollath, D., 6 Apr. 2017, (Elektronische Veröffentlichung vor Drucklegung.) in: Computational materials science. 134.2017, 15 June, S. 137-144 8 S.

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

  3. Veröffentlicht

    Structure and surface energies of nanoparticles

    Holec, D., Fischer, F.-D. & Vollath, D., 2019.

    Publikationen: KonferenzbeitragVortragForschung(peer-reviewed)

  4. Veröffentlicht

    Structure and stability of phases within the NbN-AIN system

    Holec, D., Franz, R., Mayrhofer, P. H. & Mitterer, C., 2010, in: Journal of physics / D, Applied physics. 43, S. 145403-145411

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

  5. Veröffentlicht

    Structure and properties of Ti-N-B coatings deposited by thermal CVD

    Hochauer, D., 2006

    Publikationen: Thesis / Studienabschlussarbeiten und HabilitationsschriftenDiplomarbeit

  6. Veröffentlicht

    Structure and properties of sputter deposited crystalline and amorphous Cu-Ti films

    Turnow, H., Wendrock, H., Menzel, S., Gemming, T. & Eckert, J., 1 Jan. 2016, in: Thin solid films. 598, S. 184-188 5 S.

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

  7. Veröffentlicht

    Structure and Properties of Pulsed-Laser Deposited Carbon Nitride Thin Films

    Riascos, H., Neidhardt, J., Radnoczi, G. Z., Emmerlich, J., Zambrano, G., Hultman, L. & Prieto, P., 2006, in: Thin solid films. 497, S. 1-6

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

  8. Veröffentlicht

    Structure and properties of magnetron sputtered Zr-Si-N films with a high (≥25 at.%) Si content

    Musil, J., Daniel, R., Zeman, P. & Takai, O., 2005, in: Thin solid films.

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

  9. Veröffentlicht

    Structure and properties of low-friction TiAlCN coatings prepared by reative arc-evaporation

    Rebelo De Figueiredo, M., Fontalvo, G., Franz, R., Munnik, F., Polzer, C., Lechthaler, M. & Mitterer, C., 2009.

    Publikationen: KonferenzbeitragPosterForschung(peer-reviewed)

  10. Veröffentlicht

    Structure and properties of high power impulse magnetron sputtering and DC magnetron sputtering CrN and TiN films deposited in an industrial scale unit

    Paulitsch, J., Schenkel, M., Zufraß, T., Mayrhofer, P. H. & Münz, W.-D., 2010, in: Thin solid films. 518, S. 5558-5564

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)