UV-reactive Monolayers of Aryl Esters on Oxidic Surfaces: Patterning and Chemical Surface Modification via Photo-Fries Rearrangment.

Publikationen: KonferenzbeitragPosterForschung(peer-reviewed)

Autoren

  • Thomas Höfler
  • B. Basnar
  • J. Cirac
  • Helmuth Hoffmann
  • J. Kovac
  • Michael Ramsey
  • A. Satka
  • Susanne Temmel
  • Anna Track
  • Gregor Trimmel
  • Egbert Zojer

Details

Titel in ÜbersetzungUV-reactive Monolayers of Aryl Esters on Oxidic Surfaces: Patterning and Chemical Surface Modification via Photo-Fries Rearrangment.
OriginalspracheDeutsch
StatusVeröffentlicht - 2007
VeranstaltungMaterials Research Society Fall Meeting 2007 - Boston, USA / Vereinigte Staaten
Dauer: 26 Nov. 200730 Nov. 2007

Konferenz

KonferenzMaterials Research Society Fall Meeting 2007
Land/GebietUSA / Vereinigte Staaten
OrtBoston
Zeitraum26/11/0730/11/07