Growth of para-hexaphenyl (6P) on silicon oxide by hot wall epitaxy

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Organisationseinheiten

Details

Titel in ÜbersetzungGrowth of para-hexaphenyl (6P) on silicon oxide by hot wall epitaxy
OriginalspracheEnglisch
StatusVeröffentlicht - 2010
VeranstaltungIn situ characterization of near-surface processes - Eisenerz, Österreich
Dauer: 30 Mai 20103 Juni 2010

Konferenz

KonferenzIn situ characterization of near-surface processes
Land/GebietÖsterreich
OrtEisenerz
Zeitraum30/05/103/06/10