Critical assessment of the determination of residual stress profiles in thin films by means of the ion beam layer removal method
Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Details
| Titel in Übersetzung | Critical assessment of the determination of residual stress profiles in thin films by means of the ion beam layer removal method |
|---|---|
| Originalsprache | Englisch |
| Seiten (von - bis) | 321-330 |
| Fachzeitschrift | Thin solid films |
| DOIs | |
| Status | Veröffentlicht - 2014 |
