Critical assessment of the determination of residual stress profiles in thin films by means of the ion beam layer removal method

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Autoren

Titel in Übersetzung	Critical assessment of the determination of residual stress profiles in thin films by means of the ion beam layer removal method
Originalsprache	Englisch
Seiten (von - bis)	321-330
Fachzeitschrift	Thin solid films
DOIs	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2014.06.003
Status	Veröffentlicht - 2014