Thomas Griesser
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Publikationen
- 2009
- Veröffentlicht
Refractive Index Modulation in Polymers Bearing Photoreactive Phenyl and Naphthyl Ester Units Using Different UV Wavelengths
Grießer, T., 2009, in: Journal of materials chemistry. 19, S. 4557-4565Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Temperature dependent bais-stress measurement in organic thin film Transistors
Obermüller, T., Marchl, M., Ausserlechner, S. J., Golubkov, A. W., Haase, A., Stadlober, B., Hauser, L., Trimmel, G., Edler, M., Grießer, T., Kern, W. & Zojer, E., 2009.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
UV induced modulation of the refractive index and the surface properties of photoreactive polymers bearing N-phenylamide groups
Grießer, T., Kuhlmann, J-C., Wieser, M., Kern, W. & Trimmel, G., 2009, in: Macromolecules. 42, S. 725-731Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
UV-patterning and surface modification using functional poly(norbornene)s bearing photoacidgenerator groups
Jäger, M., Hauser, L., Edler, M., Grießer, T., Kern, W. & Trimmel, G., 2009.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- 2008
- Veröffentlicht
A study of 11-MUA SAM formation on gold.
Stettner, J., Frank, P., Grießer, T., Trimmel, G., Schennach, R., Resel, R. & Winkler, A., 2008.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Pattern Generation in UV-Reaktive Polymer Films and Self-Assembled Manolayers (SAMs) Using the Photo-Fries Reaction
Höfler, T., Grießer, T., Jakopic, G., Hlawacek, G., Track, A., Shen, Q., Teichert, C., Ramsey, M., Trimmel, G. & Kern, W., 2008.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Photoelectron Spectroscopic Investigations of Photosensitive Self-Assembled Monolayers
Track, A., Höfler, T., Grießer, T., Lex, A., Trimmel, G., Kern, W., Koller, G. & Ramsey, M. G., 2008.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Photolithographic Patterning of Polymer Surfaces Using the Photo-Freis Rearrangement: Selective Postexposure Reactions
Grießer, T., Höfler, T., Temmel, S., Kern, W. & Trimmel, G., 2008, in: Chemistry of materials. 19, S. 3011-3016Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Photolithographic Patterning of Polymer Surfaces Using the Photo-Fries Rearrangement of Aromatic Amides and Aromatic Thioesters.
Höfler, T., Grießer, T., Jakopic, G., Trimmel, G. & Kern, W., 2008.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Photolithographic Patterning of Polymer Surfaces Using the Photo-Fries Rearrangement of Aromatic Amides.
Grießer, T., Kuhlmann, J-C., Wieser, M., Jakopic, G., Kern, W. & Trimmel, G., 2008.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
