Quan Shen
(Ehemalig)
Publikationen
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Growth of para-hexaphenyl (p6P) on SiO2 by hot wall epitaxy
Kratzer, M., Shen, Q. & Teichert, C., 2010.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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AFM based morphological and electrical characterization of hot wall epitaxy grown 6P/SiO2
Kratzer, M., Klima, S., Beinik, I., Shen, Q., Lugstein, A. & Teichert, C., 2010.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Morphology characterization and friction coefficient determination of sputtered V2O5 films
Klünsner, T., Shen, Q., Hlawacek, G., Teichert, C., Fateh, N., Fontalvo, G. & Mitterer, C., 2010, in: Thin solid films. 519, S. 1416-1420Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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UV-reactive Monolayers of Aryl Esters on Oxidic Surfaces: Patterning and Chemical Surface Modification via Photo-Fries Rearrangment.
Höfler, T., Basnar, B., Cirac, J., Grießer, T., Hlawacek, G., Hoffmann, H., Shen, Q., Kovac, J., Ramsey, M., Satka, A., Teichert, C., Temmel, S., Track, A., Trimmel, G., Zojer, E. & Kern, W., 2007.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Photoreactive molecular layers containing aryl ester units: Preparation, UV patterning and post-exposure modification
Höfler, T., Track, A. M., Pacher, P., Shen, Q., Flesch, H.-G., Hlawacek, G., Koller, G., Ramsey, M. G., Schennach, R., Resel, R., Teichert, C., Kern, W., Grießer, T. & Trimmel, G., 2010, in: Materials chemistry and physics (including materials science communications ; an international interdisciplinary journal on science, characterization and processing of advanced materials). 119, S. 287-293Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Hierarchy of adhesion forces in patterns of photoreactive surface layers
Hlawacek, G., Shen, Q., Teichert, C., Lex, A., Trimmel, G. & Kern, W., 2009, in: Journal of chemical physics (The journal of chemical physics). 130, S. 44703-1-44703-5Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Microstructure and Phase Behavior of a Quinquethiophene-Based Self-Assembled Monolayer as a Function of Temperature
Flesch, H.-G., Mathijssen, S. G. J., Gholamrezaie, F., Moser, A., Neuhold, A., Novák, J., Ponomarenko, S. A., Shen, Q., Teichert, C., Hlawacek, G., Puschnig, P., Draxl, C., Resel, R. & de Leeuw, D. M., 2011, in: Journal of physical chemistry C (C, Nanomaterials and interfaces). 115, S. 22925-22930Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Patterning and functionalization of organic thin layers on silicon surfaces by means of UV light
Edler, M., Grießer, T., Kern, W., Trimmel, G., Shen, Q., Teichert, C., Flesch, H.-G., Außerlechner, S. J., Marchl, M., Zojer, E., Resel, R., Track, A. M., Koller, G. & Ramsey, M. G., 2010.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Dynamics of Monolayer–Island Transitions in 2,7-Dioctylbenzothienobenzthiophene Thin Films
Dohr, M., Werzer, O., Shen, Q., Salzmann, I., Teichert, C., Ruzié, C., Schweicher, G., Geerts, H., Sferrazza, M. & Resel, R., 2013, in: CHEMPHYSCHEM. 14, S. 2554-2559Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Reversibility of temperature driven discrete layer-by-layer formation of dioctyl-benzothieno-benzothiophene films
Dohr, M., Ehmann, H. M. A., Jones, A. O. F., Salzmann, I., Shen, Q., Teichert, C., Ruzié, C., Schweicher, G., Geerts, Y. H., Resel, R., Sferrazza, M. & Werzer, O., 27 Feb. 2017, in: Soft Matter. 13.2017, 12, S. 2322-2329 8 S.Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
