Quan Shen
(Ehemalig)
Publikationen
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Growth of para-hexaphenyl (6P) on silicon oxide by hot wall epitaxy
Kratzer, M., Shen, Q. & Teichert, C., 2010.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Growth of para-hexaphenyl (p6P) on SiO2 by hot wall epitaxy
Kratzer, M., Shen, Q. & Teichert, C., 2010.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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AFM based morphological and electrical characterization of hot wall epitaxy grown 6P/SiO2
Kratzer, M., Klima, S., Beinik, I., Shen, Q., Lugstein, A. & Teichert, C., 2010.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Polymorphism of dioctyl-terthiophene within thin films: The role of the first monolayer
Lercher, C., Röthel, C., Roscioni, O., Geerts, Y. H., Shen, Q., Teichert, C., Fischer, R., Leising, G., Sferrazza, M., Gbabode, G. & Resel, R., 2015, in: Chemical physics letters. 630, S. 12 17 S.Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Investigation of chemically and photochemically reactive siloxane thin layers for surface modification
Lex, A., Pacher, P., Shen, Q., Temmel, S., Hlawacek, G., Werzer, O., Track, A. M., Frank, P., Proschek, V., Schennach, R., Koller, G., Ramsey, M. G., Teichert, C., Resel, R., Winkler, A. & Zojer, E., 2008.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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New photosensitive silane molecule for photochemical patterning of thin layers
Lex, A., Pacher, P., Schennach, R., Shen, Q., Hlawacek, G., Teichert, C., Werzer, O., Resel, R., Zojer, E., Kern, W. & Trimmel, G., 2007.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Thin Layers of Photosensitive Silane Molecules for Photochemical Patterning
Lex, A., Pacher, P., Schennach, R., Shen, Q., Hlawacek, G., Track, A. M., Koller, G., Ramsey, M. G., Teichert, C., Werzer, O., Resel, R., Zojer, E., Kern, W. & Trimmel, G., 2007.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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New Photosensitive Silane Molecules for Photochemical Patterning of Thin Layers
Lex, A., Trimmel, G., Kern, W., Pacher, P., Schennach, R., Werzer, O., Resel, R., Zojer, E., Koller, G., Shen, Q., Hlawacek, G. & Teichert, C., 2007.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Synthesis of a Photosensitive Thiocyanate-Functionalized Trialkoxysilane and Its Application in Patterned Surface Modifications
Lex, A., Pacher, P., Werzer, O., Track, A. M., Shen, Q., Schennach, R., Koller, G., Hlawacek, G., Zojer, E., Resel, R., Ramsey, M. G., Teichert, C., Kern, W. & Trimmel, G., 2008, in: Chemistry of materials. 20, S. 2009-2015Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Chemically and Photochemically Reactive Siloxane Layers for Modification of Inorganic Surfaces
Lex, A., Pacher, P., Temmel, S., Shen, Q., Hlawacek, G., Werzer, O., Track, A. M., Frank, P., Proschek, V., Schennach, R., Koller, G., Ramsey, M. G., Teichert, C., Resel, R., Winkler, A., Zojer, E., Kern, W. & Trimmel, G., 2007, Chemically and Photochemically Reactive Siloxane Layers for Modification of Inorganic Surfaces. Materials Research Society : MRS, S. 231-231Publikationen: Beitrag in Buch/Bericht/Konferenzband › Beitrag in Konferenzband
