Gregor Hlawacek
(Ehemalig)
Publikationen
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Structure, stresses and stress relaxation of TiN/Ag nanocomposite films
Köstenbauer, H., Fontalvo, G., Mitterer, C., Hlawacek, G., Teichert, C. & Keckes, J., 2009, in: Journal of nanoscience and nanotechnology. 9, S. 3606-3610Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Oriented sexiphenyl single crystal nanoneedles on TiO2 (110)
Koller, G., Berkebile, S., Krenn, J. R., Tzvetkov, G., Hlawacek, G., Lengyel, O., Netzer, F. P., Teichert, C., Resel, R. & Ramsey, M. G., 2004, in: Advanced materials. 16, S. 2159-2162Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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The influence of substrate temperature on growth of para-sexiphenyl thin films on Ir{111} supported graphene studied by LEEM
Khokar, F. S., Hlawacek, G., van Gastel, R., Zandvliet, H. J. W., Teichert, C. & Poelsema, B., 2012, in: Surface Science. 606, S. 475-480Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Structural, electrical and magnetic measurements on oxide layers grown on 316L exposed to liquid lead–bismuth eutectic
Hosemann, P., Hofer, C., Hlawacek, G., Li, N., Maloy, S. A. & Teichert, C., 2012, in: Journal of nuclear materials. 421, S. 140-146Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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UV-reactive Monolayers of Aryl Esters on Oxidic Surfaces: Patterning and Chemical Surface Modification via Photo-Fries Rearrangment.
Höfler, T., Basnar, B., Cirac, J., Grießer, T., Hlawacek, G., Hoffmann, H., Shen, Q., Kovac, J., Ramsey, M., Satka, A., Teichert, C., Temmel, S., Track, A., Trimmel, G., Zojer, E. & Kern, W., 2007.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Photoreactive molecular layers containing aryl ester units: Preparation, UV patterning and post-exposure modification
Höfler, T., Track, A. M., Pacher, P., Shen, Q., Flesch, H.-G., Hlawacek, G., Koller, G., Ramsey, M. G., Schennach, R., Resel, R., Teichert, C., Kern, W., Grießer, T. & Trimmel, G., 2010, in: Materials chemistry and physics (including materials science communications ; an international interdisciplinary journal on science, characterization and processing of advanced materials). 119, S. 287-293Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Hierarchy of adhesion forces in patterns of photoreactive surface layers
Hlawacek, G., Shen, Q., Teichert, C., Lex, A., Trimmel, G. & Kern, W., 2009, in: Journal of chemical physics (The journal of chemical physics). 130, S. 44703-1-44703-5Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Controlling molecular orientation of sexiphenyl thin films
Hlawacek, G., Andreev, A. & Teichert, C., 2006.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Bestimmung des Kontaktwinkels und der Oberflächenenergie von beschichteten Stahlproben
Hlawacek, G., Gürkan, N. & Teichert, C., 2005Publikationen: Buch/Bericht › Forschungsbericht › Transfer › (peer-reviewed)
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Smooth Growth of Organic Semiconductor Films on Graphene for High-Efficiency Electronics
Hlawacek, G., Khokhar, F. S., van Gastel, R., Poelsema, B. & Teichert, C., 2011, in: Nano Letters. 11, S. 333-337Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
