Gregor Hlawacek
(Ehemalig)
Publikationen
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UV-reactive Monolayers of Aryl Esters on Oxidic Surfaces: Patterning and Chemical Surface Modification via Photo-Fries Rearrangment.
Höfler, T., Basnar, B., Cirac, J., Grießer, T., Hlawacek, G., Hoffmann, H., Shen, Q., Kovac, J., Ramsey, M., Satka, A., Teichert, C., Temmel, S., Track, A., Trimmel, G., Zojer, E. & Kern, W., 2007.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Photoreactive molecular layers containing aryl ester units: Preparation, UV patterning and post-exposure modification
Höfler, T., Track, A. M., Pacher, P., Shen, Q., Flesch, H.-G., Hlawacek, G., Koller, G., Ramsey, M. G., Schennach, R., Resel, R., Teichert, C., Kern, W., Grießer, T. & Trimmel, G., 2010, in: Materials chemistry and physics (including materials science communications ; an international interdisciplinary journal on science, characterization and processing of advanced materials). 119, S. 287-293Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Structural, electrical and magnetic measurements on oxide layers grown on 316L exposed to liquid lead–bismuth eutectic
Hosemann, P., Hofer, C., Hlawacek, G., Li, N., Maloy, S. A. & Teichert, C., 2012, in: Journal of nuclear materials. 421, S. 140-146Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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The influence of substrate temperature on growth of para-sexiphenyl thin films on Ir{111} supported graphene studied by LEEM
Khokar, F. S., Hlawacek, G., van Gastel, R., Zandvliet, H. J. W., Teichert, C. & Poelsema, B., 2012, in: Surface Science. 606, S. 475-480Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Oriented sexiphenyl single crystal nanoneedles on TiO2 (110)
Koller, G., Berkebile, S., Krenn, J. R., Tzvetkov, G., Hlawacek, G., Lengyel, O., Netzer, F. P., Teichert, C., Resel, R. & Ramsey, M. G., 2004, in: Advanced materials. 16, S. 2159-2162Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Structure, stresses and stress relaxation of TiN/Ag nanocomposite films
Köstenbauer, H., Fontalvo, G., Mitterer, C., Hlawacek, G., Teichert, C. & Keckes, J., 2009, in: Journal of nanoscience and nanotechnology. 9, S. 3606-3610Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
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Epitaxial formation of Si and Ge nanoclusters on amorphous SiO2 layer
Kozyrev, Y., Rubezhanska, M., Sushiy, A. V., Hofer, C., Teichert, C., Hlawacek, G. & Naumovets, A. G., 2008.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Investigation of chemically and photochemically reactive siloxane thin layers for surface modification
Lex, A., Pacher, P., Shen, Q., Temmel, S., Hlawacek, G., Werzer, O., Track, A. M., Frank, P., Proschek, V., Schennach, R., Koller, G., Ramsey, M. G., Teichert, C., Resel, R., Winkler, A. & Zojer, E., 2008.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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New photosensitive silane molecule for photochemical patterning of thin layers
Lex, A., Pacher, P., Schennach, R., Shen, Q., Hlawacek, G., Teichert, C., Werzer, O., Resel, R., Zojer, E., Kern, W. & Trimmel, G., 2007.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Thin Layers of Photosensitive Silane Molecules for Photochemical Patterning
Lex, A., Pacher, P., Schennach, R., Shen, Q., Hlawacek, G., Track, A. M., Koller, G., Ramsey, M. G., Teichert, C., Werzer, O., Resel, R., Zojer, E., Kern, W. & Trimmel, G., 2007.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
