SUB-MONOLAYER GROWTH INVESTIGATIONS OF PARA-SEXIPHENYL ON SILICON DIOXIDE

Publikationen: KonferenzbeitragPosterForschung(peer-reviewed)

Organisationseinheiten

Details

Titel in ÜbersetzungSUB-MONOLAYER GROWTH INVESTIGATIONS OF PARA-SEXIPHENYL ON SILICON DIOXIDE
OriginalspracheEnglisch
StatusVeröffentlicht - 2010
VeranstaltungInternational Workshop on In situ characterization of near-surface processes - Eisenerz, Österreich
Dauer: 30 Mai 20103 Juni 2010

Konferenz

KonferenzInternational Workshop on In situ characterization of near-surface processes
Land/GebietÖsterreich
OrtEisenerz
Zeitraum30/05/103/06/10