Spannungs- und Mikrostrukturuntersuchungen an dünnen Wolframschichten

Publikationen: Thesis / Studienabschlussarbeiten und HabilitationsschriftenDiplomarbeit

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Abstract

Wolframbeschichtete Bauteile stellen ein viel versprechendes Werkstoffsystem für verschiedene Anwendungen in künftigen Fusionsreaktoren dar. Da diese Bauteile extrem hohen Temperaturen und beträchtlichem Teilchenbeschuss ausgesetzt sind, entwickeln sich in den Wolframschichten sehr hohe (thermoelastische) Spannungen, die zu Rissbildung und Schichtablösung führen können. Die Bildung und Entwicklung dieser Spannungen und die damit verbundenen mikrostrukurellen Veränderungen sind deswegen von größtem Interesse und wurden in dieser Arbeit untersucht. Hierfür wurden zwei Schichtsysteme, W/Si und W/Cu, mittels Laserablation vom Laserzentrum Leoben hergestellt und im Folgenden auf bis zu 800°C geheizt. Die dabei entstehenden Spannungen wurden mittels in-situ Röntgendiffraktometrie und Methoden mit Krümmungsmessung analysiert und mit den mikrostrukturellen Eigenschaften der Schicht, welche mittels orientierungsabbildender (EBSD) und herkömmlicher Rasterelektronenmikroskopie untersucht. Aus den erhaltenen Ergebnissen konnten wesentliche Schlüsse auf die Ausbildung der Spannungen in Zusammenhang mit den mikrostrukturellen Veränderungen gezogen werden, was zu einem umfassenden Verständnis der untersuchten Werkstoffsysteme führte.

Details

Titel in ÜbersetzungStress and Microstructureanalysis of thin Tungsten Coatings
OriginalspracheDeutsch
Betreuer/-in / Berater/-in
Datum der Bewilligung14 Dez. 2007
StatusVeröffentlicht - 2007