Funktionale Übergangsmetall-Oxynitride (Me-O-N) stellen eine Materialklasse mit wachsendem Interesse dar und sind für ihre einstellbaren und gegenüber herkömmlichen Oxiden verbesserbaren physikalischen Eigenschaften bekannt. Das Mo-O-N System ist jedoch noch größtenteils unerforscht und wird im Zuge dieser Arbeit behandelt. Es wird gezeigt, dass die Mikrostruktur sowie die mechanischen, optischen und elektrischen Eigenschaften durch den Einbau von N beeinflusst werden. Hierzu wurden Mo-O-N Schichten durch reaktives DC Magnetron-Sputtern mit unterschiedlichen Reaktivgasflussverhältnissen N2/(O2+N2) abgeschieden. Die Schichten gehen mit zunehmendem N Gehalt von einer amorphen, transparenten, nicht leitenden Erscheinungsform mit schlechten mechanischen Eigenschaften zu einem kristallinen, metall-ähnlich leitenden und harten Zustand über. Zusätzlich beeinflusst die Filmdicke die optischen und elektrischen Eigenschaften.