Chemical sensitivity on patterned organic thin films by FFM
Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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Chemical sensitivity on patterned organic thin films by FFM. / Shen, Quan; Hlawacek, Gregor; Teichert, Christian et al.
2007. Postersitzung präsentiert bei ÖPG Jahrestagung2007, Krems, Österreich.
2007. Postersitzung präsentiert bei ÖPG Jahrestagung2007, Krems, Österreich.
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Shen, Q, Hlawacek, G, Teichert, C, Lex, A, Trimmel, G & Kern, W 2007, 'Chemical sensitivity on patterned organic thin films by FFM', ÖPG Jahrestagung2007, Krems, Österreich, 24/09/07 - 29/09/07.
APA
Shen, Q., Hlawacek, G., Teichert, C., Lex, A., Trimmel, G., & Kern, W. (2007). Chemical sensitivity on patterned organic thin films by FFM. Postersitzung präsentiert bei ÖPG Jahrestagung2007, Krems, Österreich.
Vancouver
Shen Q, Hlawacek G, Teichert C, Lex A, Trimmel G, Kern W. Chemical sensitivity on patterned organic thin films by FFM. 2007. Postersitzung präsentiert bei ÖPG Jahrestagung2007, Krems, Österreich.
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title = "Chemical sensitivity on patterned organic thin films by FFM",
author = "Quan Shen and Gregor Hlawacek and Christian Teichert and Alexandra Lex and Gregor Trimmel and Wolfgang Kern",
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TY - CONF
T1 - Chemical sensitivity on patterned organic thin films by FFM
AU - Shen, Quan
AU - Hlawacek, Gregor
AU - Teichert, Christian
AU - Lex, Alexandra
AU - Trimmel, Gregor
AU - Kern, Wolfgang
PY - 2007
Y1 - 2007
M3 - Poster
T2 - ÖPG 2007
Y2 - 24 September 2007 through 29 September 2007
ER -
