Instalacion y procedimiento para la depuracion de gas de proceso para una instalacion de fusion por reduccion, que comprende una instalacion conjunta para la separacion por goteo en la que desembocan tanto el primer sistema de lavado que conduce el gas de alto horno como tambien el segundo sistema de lavado que conduce el gas generador.
Research output: Patent
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- Siemens VAI Metals Technologies GmbH and Co.
Abstract
Instalación y procedimiento para la depuración de gas de proceso para una instalación de fusión por reducción, que comprende una instalación conjunta para la separación por goteo en la que desembocan tanto el primer sistema de lavado que conduce el gas de alto horno como también el segundo sistema de lavado que conduce el gas generador.
Details
| Original language | Undefined/Unknown |
|---|---|
| Patent number | CL2009001489 |
| IPC | C21B 13/ 14 A I |
| Priority date | 27/06/08 |
| Publication status | Published - 4 Jun 2010 |
