Entwicklung von epitaktischen TiN, VN und TiN/VN Schichten
Research output: Thesis › Diploma Thesis
Standard
2007.
Research output: Thesis › Diploma Thesis
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Vancouver
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TY - THES
T1 - Entwicklung von epitaktischen TiN, VN und TiN/VN Schichten
AU - Shen, Jie
N1 - gesperrt bis null
PY - 2007
Y1 - 2007
N2 - Hartstoffschichten für Zerspannungsanwendungen erfordern eine hohe Härte bzw. Verschleißfestigkeit, niedrige Reibungskoeffizienten und hohe Oxidationsstabilität, um den Anforderungen von extremen Verarbeitungsgeschwindigkeiten und langer Lebensdauer zu entsprechen. Besonders im Fall von V in TiN/VN Mehrlagenschichten oder TiVN Einlagenschichten wird aufgrund der Bildung von Magnliphasenoxiden (VnO3n-1) an der Schichtoberfläche der Reibungskoeffizient bei hohen Einsatztemperaturen enorm gesenkt. In diesen Schichtsystemen ist vor allem der Diffusionsmechanismus von V an die Oberfläche zur Bildung des Schmierfilmes von Bedeutung. Um den grundlegenden Einfluss der Orientierung der Schichten hinsichtlich des Diffusionsverhalten und der mechanischen Eigenschaften im Fall von Mehrlagenschichtsystemen zu untersuchen, werden epitaktische Modellsysteme benötigt. Ziel dieser Arbeit war es darum, epitaktisch wachsende Einlagenschichten TiN, VN bzw. Zweilagenschichten TiN/VN auf unterschiedlich orientierten MgO (100) und (111) Substraten mittels reaktiver Kathodenzerstäubung herzustellen. Der Einfluss der Beschichtungsparameter auf die Qualität des epitaktischen Wachstums wurde mithilfe von röntgenographischen Messungen (XRD), REM/EBSD Analysen und TEM Untersuchungen bestimmt. Mechanische Eigenschaften wurden mithilfe eines Nanoindentors untersucht.
AB - Hartstoffschichten für Zerspannungsanwendungen erfordern eine hohe Härte bzw. Verschleißfestigkeit, niedrige Reibungskoeffizienten und hohe Oxidationsstabilität, um den Anforderungen von extremen Verarbeitungsgeschwindigkeiten und langer Lebensdauer zu entsprechen. Besonders im Fall von V in TiN/VN Mehrlagenschichten oder TiVN Einlagenschichten wird aufgrund der Bildung von Magnliphasenoxiden (VnO3n-1) an der Schichtoberfläche der Reibungskoeffizient bei hohen Einsatztemperaturen enorm gesenkt. In diesen Schichtsystemen ist vor allem der Diffusionsmechanismus von V an die Oberfläche zur Bildung des Schmierfilmes von Bedeutung. Um den grundlegenden Einfluss der Orientierung der Schichten hinsichtlich des Diffusionsverhalten und der mechanischen Eigenschaften im Fall von Mehrlagenschichtsystemen zu untersuchen, werden epitaktische Modellsysteme benötigt. Ziel dieser Arbeit war es darum, epitaktisch wachsende Einlagenschichten TiN, VN bzw. Zweilagenschichten TiN/VN auf unterschiedlich orientierten MgO (100) und (111) Substraten mittels reaktiver Kathodenzerstäubung herzustellen. Der Einfluss der Beschichtungsparameter auf die Qualität des epitaktischen Wachstums wurde mithilfe von röntgenographischen Messungen (XRD), REM/EBSD Analysen und TEM Untersuchungen bestimmt. Mechanische Eigenschaften wurden mithilfe eines Nanoindentors untersucht.
KW - Epitaktisches Wachstum TiN
KW - VN und TiN/VN Kathodenzerstäubung
KW - Epitaxial growth cathode sputtering
M3 - Diplomarbeit
ER -