Bewertung einer selbstreduzierenden Oberflächenschicht für Tantal - Drähte

Research output: ThesisDiploma Thesis

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@phdthesis{c16517019887491fa83637693ab6d943,
title = "Bewertung einer selbstreduzierenden Oberfl{\"a}chenschicht f{\"u}r Tantal - Dr{\"a}hte",
abstract = "Tantal z{\"a}hlt auf Grund seines Schmelzpunktes von 2996 °C zur Gruppe der hochschmelzenden Metalle. Bedingt durch seine hervorragende chemische und thermische Stabilit{\"a}t sowie die Bildung einer sehr stabilen Oxidschicht durch Formieren stellt die Produktion von Festelektrolytkondensatoren ein gro{\ss}es Anwendungsgebiet f{\"u}r Tantal dar. Durch die Verwendung von feinem Tantal-Pulver, das zu por{\"o}s gesinterten Anoden verarbeitet wird, entstehen Kondensatoren mit einem gro{\ss}en Verh{\"a}ltnis Kapazit{\"a}t/Volumen, weshalb Tantal-Festelektrolytkondensatoren bevorzugt in der mobilen Elektronik eingesetzt werden. F{\"u}r die Zuleitung des elektrischen Stromes in den Kondensator wird ein Tantaldraht in die Anode eingesintert. W{\"a}hrend des Einsinterns kommt es durch die hohen Temperaturen zu einer Diffusion von Verunreinigungen, insbesondere Sauerstoff, aus dem Tantal-Pulver in den Draht. Durch dessen interstitielle Einlagerung verliert Tantal massiv an Duktilit{\"a}t, so dass es in der weiteren Produktion und im Einsatz h{\"a}ufig zu Drahtbr{\"u}chen kommt. Um die Diffusion von Sauerstoff und die damit verbundenen negativen Auswirkungen zu verhindern, soll der Draht mit einer selbstreduzierenden Schicht versehen werden. Ziel der vorliegenden Arbeit war die Bewertung einer derartigen Schicht. Dazu wurden metallografische Untersuchungen, Biege- und Ausziehversuche sowie chemische Analysen durchgef{\"u}hrt. Weiters wurden R{\"o}ntgendiffraktogramme erstellt und die elektrische Leitf{\"a}higkeit sowie der Reststrom bestimmt.",
keywords = "tantalum tantalum wires embrittlement surface layer, Tantal Tantaldr{\"a}hte Oberfl{\"a}chenschicht Verspr{\"o}dung",
author = "Rupert Egger",
note = "gesperrt bis null",
year = "2006",
language = "Deutsch",
type = "Diploma Thesis",

}

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TY - THES

T1 - Bewertung einer selbstreduzierenden Oberflächenschicht für Tantal - Drähte

AU - Egger, Rupert

N1 - gesperrt bis null

PY - 2006

Y1 - 2006

N2 - Tantal zählt auf Grund seines Schmelzpunktes von 2996 °C zur Gruppe der hochschmelzenden Metalle. Bedingt durch seine hervorragende chemische und thermische Stabilität sowie die Bildung einer sehr stabilen Oxidschicht durch Formieren stellt die Produktion von Festelektrolytkondensatoren ein großes Anwendungsgebiet für Tantal dar. Durch die Verwendung von feinem Tantal-Pulver, das zu porös gesinterten Anoden verarbeitet wird, entstehen Kondensatoren mit einem großen Verhältnis Kapazität/Volumen, weshalb Tantal-Festelektrolytkondensatoren bevorzugt in der mobilen Elektronik eingesetzt werden. Für die Zuleitung des elektrischen Stromes in den Kondensator wird ein Tantaldraht in die Anode eingesintert. Während des Einsinterns kommt es durch die hohen Temperaturen zu einer Diffusion von Verunreinigungen, insbesondere Sauerstoff, aus dem Tantal-Pulver in den Draht. Durch dessen interstitielle Einlagerung verliert Tantal massiv an Duktilität, so dass es in der weiteren Produktion und im Einsatz häufig zu Drahtbrüchen kommt. Um die Diffusion von Sauerstoff und die damit verbundenen negativen Auswirkungen zu verhindern, soll der Draht mit einer selbstreduzierenden Schicht versehen werden. Ziel der vorliegenden Arbeit war die Bewertung einer derartigen Schicht. Dazu wurden metallografische Untersuchungen, Biege- und Ausziehversuche sowie chemische Analysen durchgeführt. Weiters wurden Röntgendiffraktogramme erstellt und die elektrische Leitfähigkeit sowie der Reststrom bestimmt.

AB - Tantal zählt auf Grund seines Schmelzpunktes von 2996 °C zur Gruppe der hochschmelzenden Metalle. Bedingt durch seine hervorragende chemische und thermische Stabilität sowie die Bildung einer sehr stabilen Oxidschicht durch Formieren stellt die Produktion von Festelektrolytkondensatoren ein großes Anwendungsgebiet für Tantal dar. Durch die Verwendung von feinem Tantal-Pulver, das zu porös gesinterten Anoden verarbeitet wird, entstehen Kondensatoren mit einem großen Verhältnis Kapazität/Volumen, weshalb Tantal-Festelektrolytkondensatoren bevorzugt in der mobilen Elektronik eingesetzt werden. Für die Zuleitung des elektrischen Stromes in den Kondensator wird ein Tantaldraht in die Anode eingesintert. Während des Einsinterns kommt es durch die hohen Temperaturen zu einer Diffusion von Verunreinigungen, insbesondere Sauerstoff, aus dem Tantal-Pulver in den Draht. Durch dessen interstitielle Einlagerung verliert Tantal massiv an Duktilität, so dass es in der weiteren Produktion und im Einsatz häufig zu Drahtbrüchen kommt. Um die Diffusion von Sauerstoff und die damit verbundenen negativen Auswirkungen zu verhindern, soll der Draht mit einer selbstreduzierenden Schicht versehen werden. Ziel der vorliegenden Arbeit war die Bewertung einer derartigen Schicht. Dazu wurden metallografische Untersuchungen, Biege- und Ausziehversuche sowie chemische Analysen durchgeführt. Weiters wurden Röntgendiffraktogramme erstellt und die elektrische Leitfähigkeit sowie der Reststrom bestimmt.

KW - tantalum tantalum wires embrittlement surface layer

KW - Tantal Tantaldrähte Oberflächenschicht Versprödung

M3 - Diplomarbeit

ER -