Ein plasma unterstützter Elektronenbeschuss während der Beschichtung von Bauteilen, welcher gepulst in den Beschichtungsprozess integriert ist, ist ein neuartiger Lösungsansatz im Design moderner Hochleistungsschichten mit dem Ziel der Stabilisierung einer Schichtstruktur, die ähnlich einer bei höheren Temperaturen abgeschieden Struktur ist. Ein solcher Ansatz ist für die Beschichtung von Substraten, welche die konventionell notwendige Abscheidungstemperatur thermisch nicht ertragen, von großem Interesse. Karbidhaltige diamond-like carbon (Me-DLC) Schichten sind aufgrund ihrer thermischen Empfindlichkeit eine geeignete Werkstoffklasse zur Untersuchung dieses Effekts. Die Realisierung des Elektronenbeschusses erfolgte durch die Überlagerung der Substratspannung mit positiv geladenen Pulsen der Länge 20-60 ms im Abstand von einigen Sekunden während des Reakivsputterns eines Chromtargets in einer Ar/CH4 Atmosphäre. Strukturelle Veränderungen wurden durch XPS (X-ray photoelectron spectroscopy) und TEM (transmission electron microscopy) Untersuchungen identifiziert. Weiters wurde eine verbesserte thermische Stabilität der abgeschiedenen Schichten ab einer bestimmten Pulsintensität mittels HT-XRD (high temperature X-ray diffraction) Messungen nachgewiesen. Darüber hinaus konnte ein leicht verbessertes Verhalten in tribologischen Reibungstest unter Laborbedingungen festgestellt werden.