PARA-SEXIPHENYL ON SILICON DIOXIDE: GROWTH AND ANNEALING
Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
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PARA-SEXIPHENYL ON SILICON DIOXIDE: GROWTH AND ANNEALING. / Lorbek, Stefan; Shen, Quan; Teichert, Christian.
2010. Postersitzung präsentiert bei 60. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft, Salzburg, Österreich.
2010. Postersitzung präsentiert bei 60. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft, Salzburg, Österreich.
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Lorbek, S, Shen, Q & Teichert, C 2010, 'PARA-SEXIPHENYL ON SILICON DIOXIDE: GROWTH AND ANNEALING', 60. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft, Salzburg, Österreich, 6/09/10 - 10/09/10. <http://www2.sbg.ac.at/oepg2010/>
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Lorbek, S., Shen, Q., & Teichert, C. (2010). PARA-SEXIPHENYL ON SILICON DIOXIDE: GROWTH AND ANNEALING. Postersitzung präsentiert bei 60. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft, Salzburg, Österreich. http://www2.sbg.ac.at/oepg2010/
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Lorbek S, Shen Q, Teichert C. PARA-SEXIPHENYL ON SILICON DIOXIDE: GROWTH AND ANNEALING. 2010. Postersitzung präsentiert bei 60. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft, Salzburg, Österreich.
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author = "Stefan Lorbek and Quan Shen and Christian Teichert",
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TY - CONF
T1 - PARA-SEXIPHENYL ON SILICON DIOXIDE: GROWTH AND ANNEALING
AU - Lorbek, Stefan
AU - Shen, Quan
AU - Teichert, Christian
PY - 2010
Y1 - 2010
M3 - Poster
T2 - ÖPG 2010
Y2 - 6 September 2010 through 10 September 2010
ER -
