Oxide-based Coatings Deposited by Thermal CVD

Publikationen: Thesis / Studienabschlussarbeiten und HabilitationsschriftenDiplomarbeit

Organisationseinheiten

Abstract

Die Leistungsfähigkeit moderner Werkstoffe wird nicht nur auf High-tech Grundmaterialien, sondern auch auf ihre Oberfläche zurückgeführt. Ziel dieser Arbeit war es, den Einfluss ausgewählter Dotierungselemente auf die Struktur und Modifikation von verschleißbeständigen Al2O3-Schichten zu untersuchen, welche durch chemische Gasphasen-Abscheidung (CVD) hergestellt wurden. Cr, Sr, Sn und Nb erschienen hierfür als Dotierungselemente geeignet. Metallische und chlorirdische Ausgangsmaterialien wurden parallel zu Al verflüchtigt. Die Abscheidungen erfolgten in einem horizontalen Rohrreaktor, im Temperaturbereich von 450 °C bis 1000 °C unter HCl/Ar/N2/H2/CO2 Atmosphäre. Hartmetall und Mo dienten als Substratmaterial. Gravimetrische Messungen, XRD, GDOES und SEM Untersuchungen wurden zur Beurteilung durchgeführt. Cr, Sn und Sr konnten in Gehalten von 10 at.-%, 0.1 at.-% bzw. 0.01 at.-% eingebaut werden. Die Dotierung hatte Veränderungen in Struktur und Modifikation zur Folge.

Details

Titel in ÜbersetzungOxidbeschichtung abgeschieden durch thermisches CVD
OriginalspracheEnglisch
QualifikationDipl.-Ing.
Betreuer/-in / Berater/-in
  • Mitterer, Christian, Betreuer (intern)
  • Martinz, Hans-Peter, Mitbetreuer (extern), Externe Person
  • Kathrein, Martin, Betreuer (extern), Externe Person
  • Hochauer, David, Mitbetreuer (intern)
Datum der Bewilligung14 Dez. 2007
StatusVeröffentlicht - 2007