Instalacion y procedimiento para la depuracion de gas de proceso para una instalacion de fusion por reduccion, que comprende una instalacion conjunta para la separacion por goteo en la que desembocan tanto el primer sistema de lavado que conduce el gas de alto horno como tambien el segundo sistema de lavado que conduce el gas generador.
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Patent Nr.: CL2009001489. Juni 04, 2010.
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T1 - Instalacion y procedimiento para la depuracion de gas de proceso para una instalacion de fusion por reduccion, que comprende una instalacion conjunta para la separacion por goteo en la que desembocan tanto el primer sistema de lavado que conduce el gas de alto horno como tambien el segundo sistema de lavado que conduce el gas generador.
AU - Martin, Schmidt
AU - Kurt, Wieder
AU - Johann, Wurm
AU - Sin-Myoung, Kang
AU - Johannes, Leopold Schenk
PY - 2010/6/4
Y1 - 2010/6/4
N2 - Instalación y procedimiento para la depuración de gas de proceso para una instalación de fusión por reducción, que comprende una instalación conjunta para la separación por goteo en la que desembocan tanto el primer sistema de lavado que conduce el gas de alto horno como también el segundo sistema de lavado que conduce el gas generador.
AB - Instalación y procedimiento para la depuración de gas de proceso para una instalación de fusión por reducción, que comprende una instalación conjunta para la separación por goteo en la que desembocan tanto el primer sistema de lavado que conduce el gas de alto horno como también el segundo sistema de lavado que conduce el gas generador.
M3 - Patent
M1 - CL2009001489
ER -