Exploring thiol-yne based monomers as low cytotoxic building blocks for radical photopolymerization;

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Autoren

Oesterreicher, A.; Ayalur-Karunakaran, S.; Moser, A.; Mostegel, F.H.; Edler, M.; Kaschnitz, P.; Pinter, G.; Trimmel, G.; Schlögl, S.; Griesser, T.

Originalsprache	Englisch
Seiten (von - bis)	3484-3494.
Fachzeitschrift	Journal of polymer science : A, Polymer chemistry
Jahrgang	54,
Ausgabenummer	21
Status	Veröffentlicht - 2016