Steigerung der Haftfestigkeit von bei Raumtemperatur gesputterten TiN Schichten
Publikationen: Thesis / Studienabschlussarbeiten und Habilitationsschriften › Diplomarbeit
Standard
2006.
Publikationen: Thesis / Studienabschlussarbeiten und Habilitationsschriften › Diplomarbeit
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TY - THES
T1 - Steigerung der Haftfestigkeit von bei Raumtemperatur gesputterten TiN Schichten
AU - Heinz, Walther
N1 - gesperrt bis null
PY - 2006
Y1 - 2006
N2 - Titannitrid (TiN) ist ein weithin bekanntes Beschichtungsmaterial für die Verbesserung der tribologischen Eigenschaften von Werkzeugen und Maschinenteilen in industriellen Anwendungen. Im Rahmen dieser Diplomarbeit wurde untersucht, wie sich die Ionenbehandlung mit einer Anode-Layer-Source-Ionenquelle auf die Haftfestigkeit von bei Raumtemperatur gesputterten TiN Schichten auswirkt. Für eine gut haftende Schicht ist die Adhäsion der Schicht auf der Substratoberfläche maßgeblich verantwortlich. Als Substrate wurden unterschiedliche Stähle verwendet. Über die Kontaktwinkelmessung konnte gezeigt werden, dass die Benetzbarkeit von vorbehandelten Proben zunimmt. Bei den Untersuchungen mittels des Scratchtestes konnte gezeigt werden, dass sich bei bestimmten Vorbehandlungsparametern der Anode-Layer-Source Ionenquelle, die Haftung der TiN-Schichten gegenüber unbehandelten Proben verbessert. Es konnte auch gezeigt werden, dass sich mit zunehmendem Chrom Gehalt der Substrate die Haftung verschlechtert.
AB - Titannitrid (TiN) ist ein weithin bekanntes Beschichtungsmaterial für die Verbesserung der tribologischen Eigenschaften von Werkzeugen und Maschinenteilen in industriellen Anwendungen. Im Rahmen dieser Diplomarbeit wurde untersucht, wie sich die Ionenbehandlung mit einer Anode-Layer-Source-Ionenquelle auf die Haftfestigkeit von bei Raumtemperatur gesputterten TiN Schichten auswirkt. Für eine gut haftende Schicht ist die Adhäsion der Schicht auf der Substratoberfläche maßgeblich verantwortlich. Als Substrate wurden unterschiedliche Stähle verwendet. Über die Kontaktwinkelmessung konnte gezeigt werden, dass die Benetzbarkeit von vorbehandelten Proben zunimmt. Bei den Untersuchungen mittels des Scratchtestes konnte gezeigt werden, dass sich bei bestimmten Vorbehandlungsparametern der Anode-Layer-Source Ionenquelle, die Haftung der TiN-Schichten gegenüber unbehandelten Proben verbessert. Es konnte auch gezeigt werden, dass sich mit zunehmendem Chrom Gehalt der Substrate die Haftung verschlechtert.
KW - Anode-Layer-Source
KW - Scratchtest
KW - Haftfestigkeit
KW - TiN Schicht
KW - Anode-Layer-Source
KW - TiN Layer
KW - Adhesion
KW - Scratch test
M3 - Diplomarbeit
ER -
