Self-Terminating Confinement Approach for Large-Area Uniform Monolayer Graphene Directly over Si/SiOX by Chemical Vapor Deposition
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Autoren
Organisationseinheiten
Externe Organisationseinheiten
- IFW Dresden
- Polish Academy of Sciences, Zabrze
- Soochow University
- Wuhan University
- Erich-Schmid-Institut für Materialwissenschaft der Österreichischen Akademie der Wissenschaften
Details
| Originalsprache | Englisch |
|---|---|
| Seiten (von - bis) | 1946-1956 |
| Seitenumfang | 11 |
| Fachzeitschrift | ACS nano |
| Jahrgang | 11.2017 |
| Ausgabenummer | 2 |
| DOIs | |
| Status | Veröffentlicht - Jan. 2017 |
