Das grundlegende Verständnis des Zusammenspiels von Plasma, Sputter- und Schichtwachstumsmechanismen erlaubt es der plasma-unterstützen Oberflächentechnik, Dünnschichteigenschaften maßgeschneidert einzustellen. Die vorliegende Arbeit beleuchtet die Mikrostrukturentwicklung von dünnen Mo Schichten, mit dem Ergebnis, dass konstante Schichteigenschaften, wie elektrischer Widerstand und Eigenspannungen, ab einer bestimmten Schichtdicke möglich sind. Darüber hinaus bestätigen die konstanten Eigenschaften von Schichten, gesputtert über die gesamte Lebensdauer einer Mo Drehrohrkathode, die Verlässlichkeit und Vorhersagbarkeit des Beschichtungssystems und des –prozesses. Mo Dünnschichten werden in der Displayindustrie sowohl wegen ihrer gut geeigneten elektrischen Leitfähigkeit als auch wegen ihrer hervorragenden Haftung auf Glas eingesetzt. Einzig die Niedertemperatur-Oxidation von Mo stellt nach wie vor eine Herausforderung dar. Es konnte gezeigt werden, dass das Zulegieren von Ta die Oxidationseigenschaften wesentlich verbessert, wobei auf einen möglichst geringen Ta-Gehalt zu achten ist, um die elektrische Leitfähigkeit nicht unzulässig zu verschlechtern. Der industrielle Erfolg von Sputter-Beschichtungsverfahren beruht darauf, dass das Verfahren einfach aufzuskalieren ist und bei beachtlichen Beschichtungsraten gut haftende Schichten hervorbringt, die eine homogene chemische Zusammensetzung aufweisen. Diese Vorteile werden zusehends auch für andere Anwendungsbereiche verwendet, unter anderem in der Textil- und Lederindustrie. Derartige neue Anwendungen erfordern den Einsatz neuer Charakterisierungsmethoden. In dieser Arbeit wurde daher auch der Verschleiß von auf Leder aufgesputterten selbstreinigenden und antibakteriellen Ti-Ag-O Schichten nach tribologischen Tests beurteilt.