Enhancement of copper nanoparticle yield in magnetron sputter inert gas condensation by applying substrate bias voltage and its influence on thin film morphology
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Externe Organisationseinheiten
- Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology
- Empa – Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology
- CEST Centre for Electrochemistry and Surface Technology GmbH
- TU Wien
- Technische Universität Wien
Details
| Originalsprache | Englisch |
|---|---|
| Aufsatznummer | 113724 |
| Fachzeitschrift | Vacuum |
| Jahrgang | 230 |
| DOIs | |
| Status | Veröffentlicht - Dez. 2024 |
