Electronic origin of structure and mechanical properties in Y and Nb alloyed Ti-Al-N thin films

Publikationen: KonferenzbeitragPosterForschung(peer-reviewed)

Details

Titel in ÜbersetzungElectronic origin of structure and mechanical properties in Y and Nb alloyed Ti-Al-N thin films
OriginalspracheEnglisch
StatusVeröffentlicht - 2012
Veranstaltung4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials - Aichi, Japan
Dauer: 4 März 20128 März 2012

Konferenz

Konferenz4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
Land/GebietJapan
OrtAichi
Zeitraum4/03/128/03/12