TiAlN-Schichten werden aufgrund ihrer hohen Warmhärte und guten Verschleißbeständigkeit seit Jahren in vielen Bereichen der Formgebungs- und Zerspanungstechnik eingesetzt. Dennoch werden weltweit weiterhin Forschungen betrieben, um diese Schichten gemäß ihrem Aufgabenbereich weiter zu optimieren oder ihnen neue Anwendungsgebiete zu eröffnen. Die Zielsetzung der vorliegenden Arbeit war es, die Auswirkungen der Korngröße des Targets auf die Schichteigenschaften von Ti1-xAlxN Schichten zu untersuchen, die mittels reaktivem Sputtern hergestellt werden. Dabei wurden pulvermetallurgisch hergestellte Targets mit einer Zusammensetzung von 50 at% Aluminium und 50 at% Titan und unterschiedlicher Korngröße (50, 100 und 150 µm) verwendet. Der Stickstoffpartialdruck wurde zwischen 0-100% pN2/pges variiert um den Einfluss auf das Targetverhalten sowie die Auswirkungen auf die Schichteigenschaften zu untersuchen. Durch Variation der Substratpositionen wurden die axialen und winkelabhängigen Sputter- und Beschichtungs-Einflüsse untersucht. Die Struktur, die Zusammensetzung und die mechanischen Eigenschaften der Schichten wie Härte und Eigenspannungen wurden untersucht. Nach ausgewählten Beschichtungsläufen wurden auch die Targets selbst analysiert.