Effect of growth conditions on interface stability and thermophysical properties of sputtered Cu films on Si with and without WTi barrier layers

Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

Externe Organisationseinheiten

  • Infineon Technologies Germany AG, Regensburg
  • Kompetenzzentrum Automobil-und Industrie-Elektronik GmbH, Villach

Details

OriginalspracheEnglisch
Aufsatznummer022201
Seitenumfang11
FachzeitschriftJournal of vacuum science & technology / B (JVST)
Jahrgang35.2017
Ausgabenummer2
DOIs
StatusVeröffentlicht - 9 Feb. 2017