Wolfgang Kern
(Ehemalig)
241 - 250 von 413Seitengröße: 10
Publikationen
- Veröffentlicht
Photo-Fries Rearrangement in Polynorbornene Side Chains Accessible by two Different Wavelenghts
Grießer, T., Höfler, T., Trimmel, G., Kern, W. & Stelzer, F., 2006.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Photo- Fries Rearrangement of Aryl Esters in Functional Polynorbornene: Tuning the Optical and Surface Properties of Polymeric Thin Layers
Grießer, T., Höfler, T., Kern, W. & Trimmel, G., 2007.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Photo-Fries rearrangements in polymers: Index patterning and Surface modification
Daschiel, U., Höfler, T., Temmel, S., Grießer, T., Trimmel, G. & Kern, W., 2006.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Photo-induced crosslinking and thermal de-crosslinking in polynorbornenes bearing pendant anthracene groups
Radl, S. V., Roth, M., Gassner, M., Wolfberger, A., Lang, A., Hirschmann, B., Trimmel, G., Kern, W. & Grießer, T., 2014, in: European polymer journal. 52, S. 98-104Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Photolithographic Micro-patterning of Polymers for Optical Applications
Köpplmayr, T., Grießer, T., Cardinale, M., Rath, T., Jakopic, G., Trimmel, G. & Kern, W., 2010, Book of Abstracts. S. 31-31Publikationen: Beitrag in Buch/Bericht/Konferenzband › Beitrag in Konferenzband
- Veröffentlicht
Photolithographic patterning of polymer surfaces based on the photo-Fries rearrangement: selective post-exposure reactions
Grießer, T., Höfler, T., Temmel, S., Kern, W. & Trimmel, G., 2007.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Photolithographic Patterning of Polymer Surfaces Using the Photo-Cleavage Reaction of ortho-Nitrobenzyl Ester
Edler, M., Jäger, M., Marchl, M., Zojer, E., Trimmel, G., Kern, W. & Grießer, T., 2010.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Photolithographic Patterning of Polymer Surfaces Using the Photo-Freis Rearrangement: Selective Postexposure Reactions
Grießer, T., Höfler, T., Temmel, S., Kern, W. & Trimmel, G., 2008, in: Chemistry of materials. 19, S. 3011-3016Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Photolithographic Patterning of Polymer Surfaces Using the Photo-Fries Rearrangement of Aromatic Amides.
Grießer, T., Kuhlmann, J.-C., Wieser, M., Jakopic, G., Kern, W. & Trimmel, G., 2008.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Photolithographic Patterning of Polymer Surfaces Using the Photo-Fries Rearrangement of Aromatic Amides and Aromatic Thioesters.
Höfler, T., Grießer, T., Jakopic, G., Trimmel, G. & Kern, W., 2008.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
